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7月3日光刻机（胶）板块较上一交易日上涨0.31%，华懋科技领涨。当日上证指数报收于3243.97，上涨1.31%。深证成指报收于11091.56，上涨0.59%。光刻机（胶）板块个股涨跌见下表：
从资金流向上来看，当日光刻机（胶）板块主力资金净流出3.72亿元，游资资金净流出2.04亿元，散户资金净流入5.76亿元。光刻机（胶）板块个股资金流向见下表：
北向资金方面，当日光刻机（胶）板块北向资金持股市值为73.07亿元，减持1.65亿元。其中增持最多的是宝通科技，增持了0.23亿元。减持持最多的是华懋科技，减持了0.4亿元。光刻机（胶）板块北向资金持股变动明细见下表：
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